Siemens bietet eine effektive Methode zur Entfernung des gesamten organischen Kohlenstoffs (TOC) in Aufbereitungsanlagen für ultrareines Wasser vor Ort für Anwendungen in der Halbleiterindustrie.

Copper Select™-Technologien bieten eine zuverlässige und kosteneffektive Behandlung von CuCMP-Schlamm, der bei der Fertigung von integrierten Schaltplatinen in der Halbleiterindustrie anfällt.

Die Nassluftoxidation und andere Methoden der hydrothermalen Behandlung werden in vielen Anwendungsfällen in der Industrie zur Behandlung von hochbelasteten Abwässern eingesetzt.

Chemikalien und Technologien für Neutralisation/Fällung durch Chemikalieneinleitung für kommunale und industrielle Anwendungen.